ポジ型フォトレジスト用現像液「SDシリーズ」

一般名称 ポジ型フォトレジスト用現像液
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)
化学式 N(CH3)4OH
主な荷姿 キャニスター、ケミドラム、PE缶
特性 ・強アルカリ性
・無色透明の液体(室温)

概要

半導体ウエハーに回路を形成するフォトリソグラフィ工程(現像)で使用される薬剤です。
切れ味のシャープな配線パターンを作ることができるため、微細な加工に適しています。
また、有機・強アルカリ性の液体であるため、無機アルカリの代用としても使用可能です。

グレード

グレード名 内容
SD-1 標準タイプ(2.38%)
SD-W 界面活性剤入り(2.38%)
SD-20 コンク品(20%)
SD-25 コンク品(25%)
特殊現像液 標準タイプ(2.38%)以外の濃度

用途

・各種レジストの現像*
・電子デバイスなどのアルカリ洗浄液
・MEMS用Siエッチング剤
・CMPスラリー原料

 *各種レジストの現像
半導体ウエハーにパターン(回路)を形成するフォトリソグラフィ工程(現像)で使用されます。
まずウエハー表面にフォトレジスト(感光材料)を塗布し、その上から光などを投影してパターンを焼き付けます。
その露光の後に、TMAHを使ってフォトレジストを溶かし、配線パターンを形成します。
(下のイラストを参照)

フォトリソグラフィ工程

フォトリソグラフィ工程
フォトリソグラフィ工程
フォトリソグラフィ工程
フォトリソグラフィ工程

特徴

・高純度
金属イオン、塩素イオンなど不純物イオンが非常に少ない。

・微細な加工にも適用可能
エッチングしやすいようにシャープな配線パターンが切れます。

ご注意

腐食性を有する強アルカリ性物質に分類されます。

関連資料

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