特殊品部門

電子材料事業

トクヤマの高純度多結晶シリコンは、世界最高レベルの高純度を実現し、半導体の高性能化を可能にしています

p型半導体を製造する際に添加される高純度ボロンは、多結晶シリコンから単結晶シリコンを製造される際に加えられる微量の添加物です。トクヤマの高純度ボロンは、高純度多結晶シリコンの析出技術から生まれた高純度の製品です

高純度多結晶シリコンの中間原料として生産される高純度の三塩化ケイ素は、半導体用途に使用できる高純度の製品です

乾式シリカ事業

高純度に精製された四塩化ケイ素を原料として用い、厳密な工程管理のもとに製造される乾式シリカです。「レオロシール®」は、5-50ナノメートルの一次粒子径からなる微粉末製品です

半導体の封止材として用いられる「エクセリカ®」は、気相反応で製造され、数~数十ミクロンの粒子径からなる高純度の合成溶融球状シリカです

トクヤマの四塩化ケイ素は、高純度多結晶シリコンの製造工程で併産される高純度の製品です

放熱材事業

トクヤマの高純度窒化アルミニウム粉末は、優れた熱伝導性、高い電気絶縁性、各種半導体に近い熱膨張性などの特性を有し、焼結体原料として最適な素材です

窒化アルミニウム粉末を焼成したセラミックスです。優れた熱伝導性や高ハロゲンプラズマ耐性、シリコンに近い熱膨張率などの特性を生かし、放熱性を要する部品や半導体製造装置の部品など多くの用途に用いられています

トクヤマのマシナブルセラミックスは、優れた機械加工性と強度を有し、機能材料を含む広範囲な分野への応用が可能なセラミックス材料です

ICケミカル事業

電子工業用グレードのイソプロピルアルコールは、独自技術により99.99%以上の高純度を実現しています。半導体、ガラス基板など電子デバイスの洗浄、乾燥に最適な製品です

半導体ウエハーに回路を形成するフォトリソグラフィ工程(現像)で使用される薬剤です。トクヤマの独自技術で製造され、低残渣物高純度薬品として多くのお客さまから信頼をいただいています

電子工業用グレードのメチレンクロライドです。独自のクロロメタン製造技術で生産される高純度のメチレンクロライドをベースにした製品で、高い清浄度が要求されるウエハー研磨剤の剥離などに用いられています

金属洗浄用溶剤として開発されたメタクレン®は、優れた洗浄力、不燃性、高い安定性、経済性という大きな特長を生かし、機械・自動車・鉄鋼業などの分野で幅広く使用されています

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