IC Chemicals/Cleaning System

ポジ型フォトレジスト用現像液『トクソーSD』シリーズ

一般名称ポジ型フォトレジスト用現像液
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)
当社製品名トクソーSD-1、SD-W、SD-20、SD-25、特殊現像液
主な用途各種レジストの現像
電子デバイス等のアルカリ洗浄剤
主な荷姿キャニスター、ケミドラム、PE缶
化学式N(CH3)4OH
特性 ・強アルカリ性
・無色透明の液体(室温)

概要

SD-1(18Lキャニスター容器)

SD-1(18Lキャニスター容器)

半導体ウエハに回路を形成するフォトリソグラフィ工程(現像)で使用される薬剤です。
切れ味のシャープな配線パターンを作ることができるため、微細な加工に適しております。
また有機・強アルカリ性の液体であるため、無機アルカリの代用としても使用可能です。

用途

・各種レジストの現像
・電子デバイス等のアルカリ洗浄液
・MEMS用Siエッチング剤

・CMPスラリー原料
※各種レジストの現像
半導体ウエハにパターン(回路)を形成するフォトリソグラフィ工程(現像)で使用されます。
まずウエハ表面にフォトレジスト(感光材料)を塗布し、その上から光等を投影してパターンを焼きつけます。その露光の後に、TMAHを使ってフォトレジストを溶かし、配線パターンを形成します。
(下のイラストを参照)

フォトリソグラフィ工程

特徴

・高純度
 金属イオン、塩素イオン等不純物イオンが非常に少ない。

・微細な加工にも適用可能
 エッチングしやすいようにシャープな配線パターンが切れます。

グレード

グレード名内容
SD-1標準タイプ(2.38%)
SD-W 界面活性剤入り(2.38%)
SD-20 コンク品(20%)
SD-25 コンク品(25%)
特殊現像液 標準タイプ(2.38%)以外の濃度

ご注意

・腐食性を有する強アルカリ性物質に分類されます。

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