研究開発組織 電子先端材料開発グループ

シリ力等の機能性粉体関連の新規品開発や製法改良を行っています。
シリカは地殻表部で最も多く存在するO（酸素）と2番目に多く存在するSi（珪素）が結合した物質であり、半導体から建材、食品に到るまで、極めて多くの分野で使用されています。電子先端材料開発グループでは、果てしなく続く顧客企業の技術進歩と共に、より優れた製品を提案しつづけます。
IoT、AI、高速通信に代表される情報電子市場が急拡大し、DXやGXが進展する中で、今後、半導体先端プロセスに対する品質ニーズは高度化・多様化していきます。合成非晶質シリカについては、乾式法（火炎法）と湿式法（沈殿法、ゲル法、ゾルゲル法）という合成方法による粉体特性の違いのみならず、その表面形態をコントロールすることによって異なる機能を発現させることができます。現在は、乾式法と湿式法ともに新たなシリカ原体の開発に意欲的に取り組んでおり、様々な表面処理による機能性付与によって、とりわけ情報電子関連や半導体部材分野で多くの成果が生まれてきています。