研究開発組織 つくば研究所・徳山研究所
概要
研究開発本部の大きな役割は、当社の次世代の成長を担う新製品や新規事業を創出することによって、トクヤマグループのポートフォリオ転換に貢献することにあります。「徳山研究所」、「つくば研究所」は、製品化の基となる要素技術及びプロセス開発を行い、次世代のトクヤマを担う製品化を担当する部署です。顧客との面談やサンプル出荷等のマーケティング活動を通じて、顧客のニーズを正確に把握しながら製品化技術を確立していきます。
開発テーマは、製品化技術が確立した段階で事業部門に移管され、製品化（上市）を目指します。従って、「徳山研究所」、「つくば研究所」は、製品化技術を育成するインキュベーションと工業化検討が大きなミッションとなります。
主な活動
「徳山研究所」は、当社のマザープラントである徳山製造所内に開発拠点があります。製造所内で長年にわたって蓄積されてきた無機材料の製造技術を礎に、電子・健康・環境の各分野で活用される新規材料の開発拠点となっています。また、開発した材料の製品化を目的に、製造所内の生産技術センターと連携し、トクヤマ独自の生産設備の開発にも取り組んでいます。
「つくば研究所」は、つくば市の研究学園都市に開発拠点があります。平成元年の開所以来、トクヤマグループのライフサイエンス分野の開発拠点として、少量多品種の高付加価値製品の開発で実績をあげてきており、2024年につくば第二研究所を新たに開設し研究開発を加速しています。機能性有機材料の開発を行うとともに、医療材料や診断試薬の開発を中心とした新たな健康領域、水素を製造する水電解装置に用いるイオン交換膜などの環境領域の研究開発、そして次世代半導体関連材料を中心とした電子領域の研究開発を行っています。また、産官学とのオープンイノベーションを積極的に進めています。
主な開発テーマ／基盤技術
球状シリカエアロゲル エアリカ®
独自技術によって作られた真球状のシリカエアロゲル粒子は、高い吸油性と滑らかな手触りといった特徴があり、化粧品に使用されています。また、艶消し、断熱などの機能性フィラーとしても有用であり、様々な分野の顧客要望を聞きながら製品開発を進めています。さらに、半導体用途をターゲットとした高純度な球状多孔質シリカも新たに開発しています。
基盤技術
シリカ合成、粒子径制御、粒子表面修飾、プロセス工学
中空シリカ粒子
新規のフロープロセスを活用し、高純度かつ1ミクロン以下の小さな中空シリカ粒子を開発しています。このような中空シリカ粒子は半導体パッケージ向けの低誘電フィラーのほか、化粧品、断熱用途にも特徴的な性能があり、製品設計と工業化技術の開発を行っています。
基盤技術
フロープロセス、界面化学、ゾルゲル、粒子径制御、粒子表面修飾、自動制御
触媒開発
水素製造のキーとなる水電解や、回収したCO2の利用など、カーボンニュートラルに向けて、これからの社会に求められる触媒開発、反応開発を行っています。マテリアル・インフォマティクスによる触媒探索、マイクロ波加熱を用いた触媒の省エネルギー合成などの新たな技術を活用し、効率的に新規触媒を開発することを目指しています。
基盤技術
電気化学技術全般、マテリアル・インフォマティクス、マイクロ波加熱合成
医療材料
血液や尿等を用いる各種疾病用の体外診断薬を開発しています。化学メーカーの特徴である材料開発力と、臨床検査装置・試薬に関する種々のノウハウを有する関連会社の（株）エイアンドティーの強みを活かし、高感度・高精度な診断薬の開発を目指しています。さらに、新規な診断薬や技術開発のため、他社や大学等と活発に共同研究を行っています。
基盤技術
有機合成化学、無機化学、ナノ材料化学、高分子化学、ケミカルバイオロジー、分子生物学、進化分子工学、電気化学
最近の論文発表
- K. Yamamoto, H. Toguchi, M. Kuriyama, S. Watanabe, F. Iwasaki, O. Onomura. “Electrophotochemical Ring-Opening Bromination of tert-Cycloalkanols”, J. Org. Chem. 2021, 86, 22, 16177-16186.
放射線防護材料
現行の含鉛素材を環境負荷の低いビスマス複合材に置き換えた新しい高分子材料の開発を行っています。X線を扱う医師等の白内障リスク低減のための放射線防護シールド材の開発を行っており、福島第一原発の廃炉作業にも試用いただいています。このように環境に配慮した独自技術により、人々の健康と社会的課題解決のために日々検討を続けております。
基盤技術
有機合成、有機無機複合化技術、精密重合制御技術
半導体関連材料
電子材料事業で培われた超高純度の薬液製造技術を応用して、先端半導体の製造工程で使用されるレジスト剥離液やエッチング液の開発を進めています。海外の当社拠点のメンバーと協力しつつ、顧客のニーズを適切に把握しながらソリューションとなるウェット薬液を提供し、半導体のさらなる高性能化に貢献していきます。
基盤技術
超高純度分析技術、無機化学、有機化学、分析化学等
最近の論文発表
- Solid State Phenomena, Vol. 346, pp 325-330, Alkali Wet Chemicals for Ru with Advanced Semiconductor Technology Nodes, Yuki Kikkawa, Yuzan Suzuki, Kohei Saito, Hiroto Yarimizu, Satoko Kanamori, Tomoaki Sato and Toru Nagashima
アニオン交換膜水電解
水から水素ガスを製造する水電解装置に用いられるアニオン交換膜の開発を行っています。当社の伝統事業であるイオン交換膜技術をベースとして顧客に最適な膜および関連材料を提供し、水素社会の実現に貢献していきます。
基盤技術
ポリマー重合技術、ポリマー加工、成膜技術、有機合成技術(分子設計、合成プロセス設計)、電気化学評価技術
人材育成方針
研究員は当社の次世代の柱となる製品を我が手で実現するという熱い思いを秘め、日々研究開発に邁進しています。人財の育成方針は下記になります。
- 独自性や主体性を重視し、入社年次に関わりなく自由闊達な議論を繰り広げることがでる様に育成します。
- 国内外の学会や研究会への積極的な参加を通じて、国際的なネットワークを構築出来るうにします。そのための、語学力向上もサポートします。
- 社内外と“知”の相互作用をすることにより、新たな発想を生み出すことができるようにミュニケーション能力を研掻してもらいます。
- 要素技術開発から製品化までの一連の開発業務の留まらず、製造、営業、品質保証等製化に必要な様々な業種を経験することで、企業人としての幅を広げてもらいます。
- スポーツやレク活動を奨励し、健康な心身、前向きな気持ちを持ち続けてもらいます。