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ポジ型フォトレジスト用現像液
「SDシリーズ」

半導体ウエハーに回路を形成するフォトリソグラフィ工程(現像)で使用される薬剤です。SDシリーズは金属イオンや塩素イオンなど不純物が非常に少ない高純度品です。切れ味のシャープな配線パターンを作ることができるため、微細な加工に適しています。また、有機・強アルカリ性の液体であるため、無機アルカリの代用としても使用可能です。 トクヤマは、日本・台湾・シンガポール・中国に出荷拠点をもち、最先端の半導体メーカーへの供給体制を強化しています。

概要

一般名称 ポジ型フォトレジスト用現像液
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)
化学式 N(CH3)4OH
主な荷姿 キャニスター、PEドラム、PE缶
グレード
グレード名 内容
SD-1 標準タイプ(2.38%)
SD-W 界面活性剤入り(2.38%)
SD-20 コンク品(20%)
SD-25 コンク品(25%)
用途
  • 各種レジストの現像(フォトリソグラフィ工程、下のイラスト参照)
  • 電子デバイスなどのアルカリ洗浄液
  • MEMS用Siエッチング剤
  • CMPスラリー原料
ご注意 腐食性を有する強アルカリ性物質に分類されます。

フォトリソグラフィ工程

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*各種レジストの現像半導体ウエハーにパターン(回路)を形成するフォトリソグラフィ工程(現像)で使用されます。
まずウエハー表面にフォトレジスト(感光材料)を塗布し、その上から光などを投影してパターンを焼き付けます。その露光の後に、TMAHを使ってフォトレジストを溶かし、配線パターンを形成します。

特徴

  • 高純度:金属イオン、塩素イオンなど不純物イオンが非常に少ない。
  • 微細な加工にも適用可能:エッチングしやすいようにシャープな配線パターンが切れます。
  • 強アルカリ性、無色透明の液体(室温)

関連資料

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